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[单选题]

霍尔元件一般采用()半导体材料

A.本征

B.P型

C.N型

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C、N型

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第1题
制造霍尔元件的理想材料是()。

A.金属

B.半导体

C.绝缘体

D.晶体

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第2题
霍尔元件是根据霍尔效应原理制成的磁电转换元件,常用()及锑化铟等半导体材料制成。

A.锗

B.硅

C.砷化镓

D.砷化铟

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第3题
请问在相同的环境条件下,本征半导体材料和杂质半导体材料哪种材料的导电能力更强?为什么?
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第4题
材料的禁带宽度,最大的是()

A. 金属;

B. 杂质半导体;

C. 绝缘体;

D. 本征半导体;

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第5题
某一半导体材料的禁带宽度为3.1电子伏特,则该半导体本征吸收的长波极限为()纳米。
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第6题
某一半导体材料的禁带宽度为2.6电子伏特,则该半导体本征吸收的长波极限为()纳米。
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第7题
在一定温度下,以下措施不能使PN结的接触电势差变大的是()。

A.减小低掺杂区的掺杂浓度

B.提高P区和N区的掺杂浓度

C.选用禁带宽度高的半导体材料

D.选用本征载流子浓度小的半导体材料

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第8题
一般情况下,热敏电阻是利用半导体材料的电阻率随()而变化的性质制成的温度温度敏感元件。

A.压力

B.温度

C.电流

D.电压

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第9题
霍尔片为一()材料制成的薄片。

A.绝缘体

B.半导体

C.导体

D.固体

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第10题
霍尔电势不等位电势产生的主要原因不包括()。

A.激励电极与霍尔电极接触不良,形成非欧姆接触

B.半导体材料不均匀造成了电阻率不均匀或几何尺寸不均匀

C.霍尔电极安装位置不对称或不在同一等电位面上

D.激励电极接触不良造成激励电流不均匀分布等

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第11题
何为本征半导体与本征吸收?
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