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第1题
关于上芯顶针痕迹监控项目，描述错误的有：（)。
A.上芯顶针痕迹检查频次为1次/批
B.在100X显微镜下检查顶针痕迹时，如果顶针痕迹不清晰，未造成明显的不良，则判定为合格
C.MOSFET产品在100X显微镜下检查时，如有顶针印记，则判断为不良
D.在监控顶针痕迹时，必须使用设备的pickdie功能从晶圆上吸取芯片做样品监控，不允许使用镊子从兰膜上直接夹取
第8题
下述哪项不是涂片实验室的基本要求（)
A.痰涂片显微镜检查实验室应具备一个独立房间
B.实验室的门应有可视窗并可锁闭，门锁及门的开启方向应不妨碍室内人员逃生
C.实验室有上下水及电的供应，在靠近实验室的出口处设感应式洗手池
D.实验室宜采用机械通风控制气流
E.实验室内应保证操作时的照明，避免不必要的反光和闪光
