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[单选题]
Ⅰ类知识产权指授权的()和集成电路布图设计专有权等。
A.实用新型专利
B.外观设计专利
C.发明专利(含国防专利)
D.知识产权
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A.实用新型专利
B.外观设计专利
C.发明专利(含国防专利)
D.知识产权
A.著作权、专利权
B.集成电路布图设计权等
C.商业秘密权、商标权
D.植物新品种权
A. 外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
B. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。
C. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
D. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。
A.10天115%
B.20天120%
C.30天115%
D.40天115%
B.提供场所、仓储、运输、邮寄、隐匿等便利条件
C.伪造、擅自制造相同或者近似的商标标识、特殊标志或者销售伪造、擅自制造的商标标识、特殊标志
D.变相利用相同或者近似的商标、特殊标志、专利、作品和其他创作成果
E.未经授权,在企业、社会团体、事业单位、民办非企业单位登记注册和网站、域名、地名、建筑物、构筑物、场所等名称中使用相同或者近似的商标、特殊标志、专利、作品和其他创作成果
随机变量U=X+Y的方差,